シンガポールの南洋理工大学(NTU)は9月13日、NTUの機械・航空宇宙工学部のオルタンス・ル・フェラン(Hortense Le Ferrand)准教授率いる研究グループが、高性能電子デバイスの過熱を防ぐ新たな解決策を考案したことを発表した。

(出典：NTU)

考案した方法では、六方晶窒化ホウ素ナノ粒子をさまざまな方向に配置することで、熱を熱源から戦略的に遠ざけることができる。研究者らは、この技術革新により、次世代の電子機器を低温に保つ、より効果的な熱管理ソリューションへの道が開けるかもしれないと述べた。

サイエンスポータルアジアパシフィック編集部